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von Kanel, A., Falub, C., Isa, F., Chrastina, D., Isella, G., Niedermann, P., et al. (2011). Self-aligned epitaxy in a mask-less deposition with kinetic and geometric constraints. Intervento presentato a: 7th Int. Conf. on Si Epitaxy and Heterostructures ICSI-7, Leuven (Belgium).

Self-aligned epitaxy in a mask-less deposition with kinetic and geometric constraints

GATTI, RICCARDO;MARZEGALLI, ANNA;BERGAMASCHINI, ROBERTO;MIGLIO, LEONIDA
2011
abstract + slide
epitaxy; growth; Si; Ge
English
7th Int. Conf. on Si Epitaxy and Heterostructures ICSI-7
2011
2011
none
von Kanel, A., Falub, C., Isa, F., Chrastina, D., Isella, G., Niedermann, P., et al. (2011). Self-aligned epitaxy in a mask-less deposition with kinetic and geometric constraints. Intervento presentato a: 7th Int. Conf. on Si Epitaxy and Heterostructures ICSI-7, Leuven (Belgium).
02 - Intervento a convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/10281/71206
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