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The problem of in situ monitoring the film thickness by quartz microbalance during vacuum deposition of organic-molecular semiconductors is addressed herein by setting a procedure for sensor calibration based on ex situ analysis of the deposited molecular film by atomic-force microscopy measurements. The procedure is applied to the growth of molecular-organic thin films on silica. Some physical parameters of the materials are deduced. (C) 2004 American Vacuum Society.
Campione, M., Cartotti, M., Pinotti, E., Sassella, A., & Borghesi, A. (2004). Thickness measurements by quartz microbalance during thin-film growth by organic-molecular-beam deposition. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS, 22(3), 482-486 [10.1116/1.1690249].
Thickness measurements by quartz microbalance during thin-film growth by organic-molecular-beam deposition
The problem of in situ monitoring the film thickness by quartz microbalance during vacuum deposition of organic-molecular semiconductors is addressed herein by setting a procedure for sensor calibration based on ex situ analysis of the deposited molecular film by atomic-force microscopy measurements. The procedure is applied to the growth of molecular-organic thin films on silica. Some physical parameters of the materials are deduced. (C) 2004 American Vacuum Society.
Campione, M., Cartotti, M., Pinotti, E., Sassella, A., & Borghesi, A. (2004). Thickness measurements by quartz microbalance during thin-film growth by organic-molecular-beam deposition. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS, 22(3), 482-486 [10.1116/1.1690249].
Campione, M; Cartotti, M; Pinotti, E; Sassella, A; Borghesi, A
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/10281/1913
Citazioni
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Social impact
simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2021-2023 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 598/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
