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EnglishThe problem of in situ monitoring the film thickness by quartz microbalance during vacuum deposition of organic-molecular semiconductors is addressed herein by setting a procedure for sensor calibration based on ex situ analysis of the deposited molecular film by atomic-force microscopy measurements. The procedure is applied to the growth of molecular-organic thin films on silica. Some physical parameters of the materials are deduced. (C) 2004 American Vacuum Society.
| Citazione: | Campione, M., Cartotti, M., Pinotti, E., Sassella, A., & Borghesi, A. (2004). Thickness measurements by quartz microbalance during thin-film growth by organic-molecular-beam deposition. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS, 22(3), 482-486. |
| Tipo: | Articolo in rivista - Articolo scientifico |
| Carattere della pubblicazione: | Scientifica |
| Titolo: | Thickness measurements by quartz microbalance during thin-film growth by organic-molecular-beam deposition |
| Autori: | Campione, M; Cartotti, M; Pinotti, E; Sassella, A; Borghesi, A |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | mag-2004 |
| Lingua: | English |
| Rivista: | JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS |
| Digital Object Identifier (DOI): | 10.1116/1.1690249 |
| Appare nelle tipologie: | 01 - Articolo su rivista |
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