Bicocca Open Archive

Logo unimib boa

Bergamaschini, R., Montalenti, F., Miglio, L. (2010). Optimal growth conditions for selective Ge islands positioning on pit-patterned Si(001). Intervento presentato a: International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces ESPS-NIS 14-18 June, Como (Italia).

Optimal growth conditions for selective Ge islands positioning on pit-patterned Si(001)

BERGAMASCHINI, ROBERTO;MONTALENTI, FRANCESCO CIMBRO MATTIA;MIGLIO, LEONIDA
2010
poster
heteroepitaxy; pattern; kinetic monte carlo; Si; Ge
English
International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces ESPS-NIS 14-18 June
2010
2010
none
Bergamaschini, R., Montalenti, F., Miglio, L. (2010). Optimal growth conditions for selective Ge islands positioning on pit-patterned Si(001). Intervento presentato a: International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces ESPS-NIS 14-18 June, Como (Italia).
02 - Intervento a convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/10281/71287
Citazioni
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
Social impact