Novikov, P., LE DONNE, A., Cereda, S., Miglio, L., Pizzini, S., Binetti, S., et al. (2009). Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition. OPTOELECTRONICS INSTRUMENTATION & DATA PROCESSING, 45(4), 322-327 [10.3103/S8756699009040062].

Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition

LE DONNE, ALESSIA;CEREDA, SILVIA;MIGLIO, LEONIDA;Pizzini, S;BINETTI, SIMONA OLGA;MONTALENTI, FRANCESCO CIMBRO MATTIA
2009

Articolo in rivista - Articolo scientifico
nc-Si , PECVD
English
2009
45
4
322
327
none
Novikov, P., LE DONNE, A., Cereda, S., Miglio, L., Pizzini, S., Binetti, S., et al. (2009). Phenomenological model of nanocrystalline silicon film formation by plasma-enhanced chemical vapor deposition. OPTOELECTRONICS INSTRUMENTATION & DATA PROCESSING, 45(4), 322-327 [10.3103/S8756699009040062].
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/10281/37455
Citazioni
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
Social impact