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Crosta, G. (1981). Anwendung der Kontrolltheorie an der Mikrolithographie. In Einladung und Programm zur Tagung Optik und Feinwerktechnik (pp.10-10). Wetzlar : Deutsche Gesellschaft fuer angewandte Optik.

Anwendung der Kontrolltheorie an der Mikrolithographie

CROSTA, GIOVANNI FRANCO FILIPPO
1981
abstract + slide
optical microlithography; polychromatic radiation; optimal control; adjoint system; photoresist exposure; exposure optimisation; intensity functional
German
Optik und Feinwerktechnik
1981
Ahlers, RJ; Auracher, F; [...] Zajac, M; Zoechling, G
Boseck, S
Einladung und Programm zur Tagung Optik und Feinwerktechnik
mag-1981
1981
10
10
B.7
open
Crosta, G. (1981). Anwendung der Kontrolltheorie an der Mikrolithographie. In Einladung und Programm zur Tagung Optik und Feinwerktechnik (pp.10-10). Wetzlar : Deutsche Gesellschaft fuer angewandte Optik.
02 - Intervento a convegno
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