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EnglishBarni, R., Zanini, S., Siliprandi, R., Esena, P., & Riccardi, C. (2007). Trends in plasma applications. In Proceedings of the 3rd International Conference on the Frontiers of Plasma Physics and Technology (pp.S2-3.1-S2-3.10). Vienna : IAEA.
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http://hdl.handle.net/10281/8789| Citazione: | Barni, R., Zanini, S., Siliprandi, R., Esena, P., & Riccardi, C. (2007). Trends in plasma applications. In Proceedings of the 3rd International Conference on the Frontiers of Plasma Physics and Technology (pp.S2-3.1-S2-3.10). Vienna : IAEA. |
| Tipo: | paper |
| Carattere della pubblicazione: | Scientifica |
| Titolo: | Trends in plasma applications |
| Autori: | Barni, R; Zanini, S; Siliprandi, R; Esena, P; Riccardi, C |
| Autori interni: | RICCARDI, CLAUDIA BARNI, RUGGERO ZANINI, STEFANO |
| Data di pubblicazione: | 2007 |
| Lingua: | English |
| Nome del convegno: | 3rd International Conference on the Frontiers of Plasma Physics and Technology |
| Appare nelle tipologie: | 02 - Intervento a convegno |
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