Self-similar patterns are frequently observed in Nature. Their reproduction is possible on a length scale 10<sup>2</sup>-10<sup>5</sup> nm with lithographic methods, but seems impossible on the nanometer length scale. It is shown that this goal may be achieved via a multiplicative variant of the multi-spacer patterning technology, in this way permitting the controlled preparation of fractal surfaces. © 2008 to the authors.
Cerofolini, G.F., Narducci, D., Amato, P., & Romano, E. (2008). Fractal Nanotechnology. NANOSCALE RESEARCH LETTERS, 3, 381-385.
Citazione: | Cerofolini, G.F., Narducci, D., Amato, P., & Romano, E. (2008). Fractal Nanotechnology. NANOSCALE RESEARCH LETTERS, 3, 381-385. |
Tipo: | Articolo in rivista - Articolo scientifico |
Carattere della pubblicazione: | Scientifica |
Titolo: | Fractal Nanotechnology |
Autori: | Cerofolini, GF; Narducci, D; Amato, P; Romano, E |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2008 |
Lingua: | English |
Rivista: | NANOSCALE RESEARCH LETTERS |
Digital Object Identifier (DOI): | http://dx.doi.org/10.1007/s11671-008-9170-0 |
Appare nelle tipologie: | 01 - Articolo su rivista |
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